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大尺寸臺式熱原子層沉積系統 ALD 安瑞克(ANRIC)技術公司開發的原子層沉積(ALD)是一種氣相薄膜沉積技術，以其出色的匹配性、均勻性以及亞納米級的厚度控制而著稱。其基本原理基于自限性表面反應，即依次將前驅體引入到基底上，每次循環形成一層原子級薄膜。這種精確的控制使得能夠沉積出無缺陷且可重復的超薄薄膜，從光滑表面到復雜的三維結構(如溝槽、多孔材料、纖維、膜和納米管)都能實現。
更新時間：2025-07-02
產品型號：AT-LT
瀏覽量：182
市面上最小的ALD，可放進手套箱，來自美國哈佛的原子層沉積系統$n兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，具有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。
更新時間：2025-06-05產品型號：AT 200M瀏覽量：1268
PICOSUN R-200 標準型ALD系統，PICOSUN®R-200標準ALD系統適用于數十種應用的研發，例如IC組件、MEMS器件、顯示器、LED、激光和3D對象，例如透鏡、光學器件、珠寶、硬幣和醫療植入物
更新時間：2024-11-18產品型號：PICOSUN R-200瀏覽量：542
PICOSUN®P-300BALD系統是專為生產MEMS設備(例如打印頭，傳感器和麥克風)以及各種3D物品(例如機械零件，玻璃或金屬薄板，硬幣，手表零件和珠寶，鏡片，光學器件以及醫療設備和植入物
更新時間：2024-11-18產品型號：PICOSUN P-300B型瀏覽量：402
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